Primo AD-RIE?是6731顶级游戏第二代电介质刻蚀产品。。。。。。。；；；；；谝驯蝗峡傻腜rimo D-RIE?刻蚀设备，，，，，Primo AD-RIE利用了拥有自主知识产权的新设计，，，，，建设了可切换双低频射频源，，，，，优化了上电极气流散布以及下电极温控系统。。。。。。。为了优化出产效能，，，，，Primo AD-RIE系统同样能够矫捷地装置多达三个双反映台反映腔（即六个反映台）。。。。。。。Primo AD-RIE具备可能满足新一代芯片器件造作需要的先进机能，，，，，目前已被宽泛利用于40到14纳米后段造程。。。。。。。
此表，，，，，6731顶级游戏基于Primo AD-RIE开发了子系列产品Primo AD-RIE-e和Primo AD-RIE-cr。。。。。。。Primo AD-RIE-e建设了自主研发的四区动态静电吸盘，，，，，每一造程步骤可独立进行控温，，，，，以达到更高的刻蚀均匀度和刻蚀选择比，，，，，目前已利用于5纳米前段和中段的掩膜层刻蚀的开发及量产。。。。。。。Primo AD-RIE-cr建设了占有自主知识产权涂层技术的抗侵蚀反映腔，，，，，可应对电介质资料、金属及金属氧化物资料复杂结构的刻蚀要求。。。。。。。
为40到7纳米芯片造作提供创新的刻蚀解决规划
双反映台腔体设计拥有更高的产出效能
双低频功率切换系统，，，，，用于造程分步骤优化
脉冲射频系统选项
多区气体分配调节系统
静电吸盘双区冷却装置
低金属传染工艺组件选项
每一步骤可独立进行控温的四区动态静电吸盘 （Primo AD-RIE-e）
占有自主知识产权涂层技术的抗侵蚀反映腔 （Primo AD-RIE-cr）
一体整合的除胶能力及表表电荷减除能力 （Primo iDEA?系统）
双低频率分步骤切换系统，，，，，以合用于更广的造程领域（出格是Trench/Via All-in-one造程）
优异的工艺可调性和不变性，，，，，以满足先进工艺尺度
逾越产效能，，，，，低出产成本（CoO）
扩大机型Primo AD-RIE-e, Primo AD-RIE-cr 和 Primo iDEA?，，，，，可利用于分歧特殊造程
