





作为6731顶级游戏第一代电介质刻蚀产品,,,,,,Primo DRIE?是12英寸双反映台多反映腔主机系统,,,,,,可矫捷装置多达三个双反映台反映腔(六个反映台)。。。。。。。每个反映腔都能够同时加工两片晶圆。。。。。。。该设备使用了6731顶级游戏拥有自主知识产权的创新技术,,,,,,蕴含甚高频和低频混合射频去耦合反映等离子体源、等离子体隔离环、以及用于节造腔体内反映环境的先进工艺组件。。。。。。。Primo DRIE刻蚀设备可用于加工蕴含氧化硅、氮化硅及低介电系数膜层等所有的电介质资料。。。。。。。Primo DRIE于2007年颁布之后,,,,,,由于其较低的出产成本、较高的出产效能和优异的芯片加工机能,,,,,,已在国际主流芯片出产线上投入量产。。。。。。。

为65到16纳米芯片造作提供创新的刻蚀解决规划
双反映台腔体设计拥有更高的产出效能
双反映台独立射频系统和刻蚀终端节造系统
占有自主知识产权的射频匹配系统
占有自主知识产权的等离子体隔离技术
逾越产效能,,,,,,低出产成本(CoO)
设备占地面积幼
一体整合的除胶能力及表表电荷减除能力(Primo iDEA?系统)


